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なぜ今、EB直描機なのか？
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今、半導体製造の現場では、「開発費負担の軽減」と「開発TAT（Turn Around Time）の短縮」が大きな課題になっています。なぜ、EB直描機の導入がこれらの解決に有効といえるのでしょうか？ここでは、当社製EB露光装置の導入によるお客様のメリットについて、具体的に検証してみたいと思います。
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EB直接描画機導入のメリット
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EB直描機には"マスクレス"という非常に優れた利点があり、マスクそのものの作成が不要なため、露光データさえ用意すれば1枚のウエハ上に複数種のさまざまなパターンが描画できます。この結果、マスクコストをゼロにすることができ、さらに試作ロット数の削減や設計期間の短縮が可能になるのです。
以下に、EB直接描画機導入によって得られるメリットをまとめてみました。 |
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1) |
微細化に対応 |
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F3000では、65nmノード以降のシステムLSIへの対応が可能です。
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2) |
LSI設計の開発費軽減とTATの短縮に有効
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1本のビームで描画するコンベンショナルなEB直描機であっても、「LSI開発費負担の軽減」と「開発TATの短縮」に貢献できます。特に、セットメーカが求める「特徴あるデバイスの市場への早期投入」に有効です。
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3) |
システムLSI製造の変化に対応
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光リソグラフィ装置と比較するとスループットが悪いEB直描機ですが、システムLSIの生涯生産個数である1万〜数万個の範囲であれば、液浸ArFよりCOOが良く、経済的といえます。それ以上の処理量向上には、マルチビームで対応していきます。
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導入事例
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株式会社イー・シャトル 様
同社は、試作を希望される多数のお客様のデバイスを集め、一枚のフォトマスク上にまとめることで、コストの軽減に貢献する「シャトルサービス」に加え、F3000導入を機に、マスクを不要とするEB直描技術を用いたLSI試作サービスを開始、お客様の試作コストの低減やTAT短縮を実現されています。 |
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