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技術紹介
アドバンテスト製 EB露光装置
次世代の半導体製造プロセスを変革するアドバンテストの「EBソリューション」をご紹介します。
LSIの微細化が一層進みつつあるなか、次世代の設計ルールに対応する有力な技術として、電子ビーム(EB)露光技術が注目を集めています。アドバンテストでは、研究・開発用の設計ツールとしてはもちろん、少量多品種生産が進むSoCの生産ラインへの導入も視野に入れて、直接描画(以下、直描とします)方式を採用したEB露光装置をご提案しています。「開発コスト削減」と「開発期間短縮」を可能にするアドバンテストのEBソリューションの導入を、ぜひご検討ください。

EB直接描画方式とは
電子ビーム露光装置の種類と、EB直描方式の特長についてご紹介します。

今後の課題と展望
EB直描機の抱える課題と今後の展望に関するまとめです。
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