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| 65nmノード以降の回路パターンを低コスト、高スループットで描画 |
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F3000は、多品種・少量生産を短TATで実現でき、65nm以降のシステムLSIへの露光に最適な300mmウエハ対応電子ビーム露光装置です。
従来機の高解像電子光学系や高信頼性・高稼働率を実現するための機能を継承しながら、高剛性ボディの採用などシステムに各種改良を施し、露光位置精度の性能向上をはかりました。
また、処理能力向上やパターン特性を向上させる手段として、ブロック露光機能を有しています。
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多品種・少量のシステムLSI露光に最適
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高解像度、高精度、高スループット
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300mmウエハに対応
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ブロック露光機能
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| 対応ウエハサイズ： |
300mm |
| 最小線幅： |
40nm以下 |
| 寸法精度： |
7nm以下 |
| 重ね合わせ精度： |
20nm以下 |
| 露光方式： |
ブロック露光方式 |
| ブロック選択個数： |
100個 |
| ブロック倍率： |
60倍 |
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 技術紹介はこちらをご覧ください |
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