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半導体フォト・マスク用線幅測定電子顕微鏡 MASK CDSEM 「E3610/E3620」 自社ブランドで販売開始

2010年1月5日

株式会社アドバンテスト(本社:東京都千代田区 社長:松野晴夫)は、半導体フォトマスク上の微細寸法パターンを高精度で測定できる半導体フォトマスク用CDSEM(Critical Dimension Scanning Electron Microscope)「E3610/E3620」の販売を開始いたします。
当社はこの半導体フォトマスク用CDSEMを、従来2004年度より相手先ブランドにて販売しておりましたが、このたび当該販売契約期間終了に伴い、当社のブランドにて販売を開始するものです。今後お客様の半導体開発促進ならびに半導体製造歩留まり向上に、より一層の貢献を目指してまいります。

E3610/E3620の特徴
半導体パターンの微細化に伴い、ウエハにパターンを転写するためのキー・デバイスである、フォトマスクへの微細化要求も、ますます高まっています。
当社の半導体フォトマスク用CDSEM「E3610/E3620」は、様々な種類のフォトマスクに対応しており、既に多くの半導体メーカーやフォトマスク・メーカーにおいて採用されています。また、現在最先端の技術をもつ半導体メーカー、およびフォトマスク・メーカーでは、22nmノード世代に向けた最先端プロセスの開発が進められており、今後さらに高精度で安定的な測定が必要となってまいります。
「E3610/E3620」は、当社独自のカラム(電子顕微鏡部)デザインと、当社が誇る高度な設計技術により、被測定物を高精度に測定することができます。また30日間の連続稼動安定度では、変動幅1nm以下を実現し、長期間におよぶ測定安定性にも優れています。
製品に関するお問い合わせ先
製品の詳細につきましては、以下のURLでご参照いただけます。

http://www.advantest.co.jp/products/E3620/index.shtml
本製品担当部署:ナノテクノロジー第2事業部 0480-72-6300
※本ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報であり、時間の経過または様々な事象により予告無く変更される可能性がありますので、あらかじめご了承ください。
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