2011年度プレス リリース 2010年度プレス リリース 2009年度プレス リリース 2008年度プレス リリース 2007年度プレス リリース テラヘルツ電磁波技術で新規事業分野を開拓 2009年9月17日 〜　世界初、「テラヘルツ・3Dイメージング・システム」の製品化に成功　〜 株式会社アドバンテスト（本社：東京都千代田区 社長：松野 晴夫）は、当社で開発したテラヘルツ電磁波技術を使って、測定対象物の内部にある物質を、非破壊かつ三次元で可視化・解析できる「テラヘルツ・3Dイメージング・システム」の製品化に世界で初めて成功いたしました。 このシステムは、今年3月に新設した新企画商品開発室の第一号となる製品で、新規事業の一角をなすものです。 テラヘルツ電磁波は、幅広い応用分野への適用が期待されており、当社は、工業加工品、医薬品、バイオテクノロジー、セキュリティーなど多岐にわたる分野での新しい応用の開拓に注力していきます。 テラヘルツ電磁波は、電波と光の境界に位置する数十GHz〜100THzの周波数範囲の電磁波です。この電磁波は、電波と光波の特徴を併せ持ち、物質透過性と物質固有の指紋スペクトル（吸収スペクトル）が得られる、優れた特性があります。さらに、適度な空間分解能を持っているため実用的なイメージング解析に適しています。しかし、今までは世の中のテラヘルツ電磁波の発生・検波技術や測定方式などの装置化に必要ないくつかの基本技術が未熟であったため、積極的に利用されず、その応用は未開拓のままでした。 当社は、当社が新たに開発したテラヘルツ電磁波技術と今まで当社が長年培ってきた光・電気測定技術の応用を研究してまいりました。その結果、名古屋大学川瀬晃道教授と当社が共同で開発したテラヘルツ電磁波によるイメージング技術と当社が独自で開発した超短フェムト秒パルス光ファイバレーザを利用して、被測定物（セラミックやプラスチック加工品など）を非破壊、かつ可視化して、内部の物質の種類、分布、質量などを解析できる「テラヘルツ・3Dイメージング・システム」（装置名）の開発に成功いたしました。 この装置は、0.02〜3THz（オプションにて7THzまで拡張可能）に及ぶテラヘルツ電磁波帯の高速な透過・反射測定により、被測定物内部の特定成分を三次元画像化し、成分分布や構造的な欠陥などを簡単に解析することができます。これにより、今まで、マイクロ波、赤外線、Ｘ線、超音波などで不可能とされた解析が可能となり、工業分野におけるテラヘルツ電磁波を使った新たな計測が可能となります。また、今後さらに複雑になる医薬品の結晶形などの製剤成分分析やバイオ関連物質などへの応用も可能です。 当社は、当装置を使って、幾つかの工業加工品やケミカル物質のアプリケーション開発を進めております。さらに、新たな応用範囲を拡大するために、お客様と協力して測定サンプルを計測・解析する予定です。 本装置は、エレクトロテスト・ジャパン(2010年1月20日から3日間：東京都江東区：東京ビックサイト)に参考出品予定です。また、お客様からのお問い合わせにつきましては、本リリース文の最後に示します専用のメールアドレスでお受けいたします。 【テラヘルツ・3Dイメージング・システム】 【疑似測定サンプルのテラヘルツ3D測定例】 ポリエチレンの円柱に測定試薬として、 アミノ酸と糖を充填した疑似測定サンプル 装置概要 「テラヘルツ・3Dイメージング・システム」は、超短パルス光ファイバレーザ技術、テラヘルツ光サンプリング方式による高速測定技術、センシング感度を向上させるテラヘルツ・センサ技術に加え、テラヘルツ電磁波による三次元断層測定技術により、測定対象物を非破壊で三次元可視化します。また、テラヘルツ波が持つ物質透過性や指紋スペクトルの特長を活かし、物体材料内の、特定成分を計測することも可能です。 1) テラヘルツ電磁波による三次元画像解析 新たに開発したテラヘルツ電磁波特有の屈折を補償する技術と、測定対象物を空間掃引しながら透過特性を測定し、逆投影演算などの画像処理を行うCT (Computed Tomography) 技術により非破壊で三次元画像を測定し、内部の成分分布や構造の解析を可能にしました。また、テラヘルツ波の発生と検出を当社独自の超短フェムト秒パルス光ファイバレーザを使って高精度にサンプリング同期させるテラヘルツ光サンプリング方式を開発し、従来の約1000倍（当社比）にも及ぶ実用的な測定スループットを実現し、三次元画像の測定を短時間に行うことができます。 2) 広帯域なテラヘルツ電磁波分光分析 光パルス幅80fs、高安定な繰り返し光パルスを実現した、当社独自の超短フェムト秒パルス光ファイバレーザにより、最大測定周波数3THzの広帯域な分光分析が可能です。また、オプションにて最大測定周波数を7THzまで拡張できます。様々なケミカル材料、工業材料、バイオ物質などの指紋スペクトルの解析が簡単にできます。 3) 量産ラインでの検査にも対応する複数同時測定 装置内のテラヘルツ電磁波発生モジュールと検波モジュールを簡単に20チャンネルまで増設可能です。これにより、テラヘルツ電磁波における複数同時測定が可能となり、量産ラインなどの検査にも使用できる高速な測定スループットが実現できました。また、発生、検波モジュールは測定対象物の形状や配置に応じて、フレキシブルに固定する位置が変えられるため、お客様の測定環境に応じた測定システムが構築できます。 製品に関するお問い合わせ先 新企画商品開発室　TASpj 専用の問合わせメールアドレス：info_t@jp.advantest.com TEL：022-392-8730 （ダイヤルイン） ※本ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報であり、時間の経過または様々な事象により予告無く変更される可能性がありますので、あらかじめご了承ください。 2009年度プレスリリースへ戻る

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